Предложение - Композиционная полирующая суспензия на основе ионообменного силикатного золя для обработки пластин монокристаллического кремния

Автор: Гайшун Владимир Евгеньевич
Contacts:
Гайшун Владимир Евгеньевич
УО «Гомельский государственный университет имени Ф.Скорины»
тел. (8 0232) 57 64 36
Предлагается изготовление и поставка композиционной суспензии, предназначенной для финишной химико-механической полировки пластин монокристаллического кремния

Classifier of American Commercial Center of Technology Transfer (yet2.com)
UNO Industrial Development Network classifier
Type Products/Services
Categories
Current stage of development
Available forms of cooperation

Аннотация предложения: 

Предлагается изготовление и поставка композиционной суспензии, предназначенной для финишной химико-механической полировки пластин монокристаллического кремния

Ключевые слова: 

полирующая суспензия

Описание предложения: 

Композиционная суспензия предназначена для финишной химико-механической полировки (ХМП) пластин монокристаллического кремния различной ориентации и обеспечивает высокую чистоту поверхности после полировки, малую величину возникающего статического электричества на полировальнике, высокую производительность, лёгкость использования, высокую стабильность и минимальное загрязнение ионами металлов.

Технические и экономические преимущества продукции: 

Эффективность химико-механической полировки пластин монокристаллического кремния заключается в получении зеркальной, гладкой, ровной поверхности с нанометровой (субнанометровой) шероховатостью при достаточно высокой скорости съёма материала. Композиционная суспензия на основе SiO2 содержит частицы минимально возможных размеров для обеспечения однородности геометрических и структурных свойств полируемых поверхностей. Также суспензия является однородной по фазовому и элементному составу, высокостабильной, простой в приготовлении и использовании, дешевой и экологически безопасной. Композиционная суспензия обладает полирующей способностью со скоростью съёма материала 0,8 мкм/мин на I стадии и 0,1 мкм/мин на II стадии.

Область применения продукции: 

В микроэлектронике, при химико-механической полировке пластин монокристаллического кремния различной ориентации